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现在的路径一共四大阵营，尼康占主导的157nm激光、因特尔BMD摩托骡拉联合的13.5nmEUVLLC、NEC托西巴NTT和IBM联合的1nm接近式X光、朗讯贝尔实验室高的0.004nmEPL和0.00005nmIPL。
后面两个算是浪漫阵营，纯理论研究，他们就没想过产业化的事情。
而EUV太超前，短期内根本无法实现。
我个人还是更看好尼康的干式157nm技术路径。”
卿云笑了，他懒得和程进扯什么科学英雄史观的问题，更没兴趣和他聊技术路径路径，开口说道，
“荷兰的ASML正在和林本坚一起共同攻坚浸入式光刻技术。”
程进闻言摇了摇头，“没用的，浸入式通过水滴折射确实可以跳过157nm，直接做到134nm波长，而后就会被65nm的最高生产分辨率给卡住，到时候怎么办？
小卿，光刻是要遵循瑞利公式的，λ为光源波长、NA为数值孔径、k为光刻工艺系数，三者共同决定投影式光刻机分辨率CD。
光刻机的分辨率与光源波长成正比，想要制造出更小的尺寸，就需要缩短光源的波长，这也是光刻机世代演变的核心。
所以，你不管怎么折射，最终还是要通过光源的波长来解决问题。”
熟知后事的卿云很清楚，程进说的是对的。
浸入式、浸没式、浸润式，其光源都是193nm激光器，随后是根据瑞利公式的另一个参数：孔径，来实现精度的提高。
再之后，便是二次曝光技术，同样是基于193nm的光源。
而最终，在DUV后，ASML还是走了波长13.5nm的EUV路径。
但那是十来年后的事情了。
彼时的ASML已经一家独大，它的领先优势可以随意切换赛道，但此时的光刻机市场却并非如此。
此时还是群雄混战时期，谁先突破，便是赢家通吃。
ASML与尼康佳能的光刻机之战，其实是一个弱者在走投无路之下，抱着‘光脚的不怕穿鞋的"的赌命心态进行绝地突围的故事。
ASML能赢，并不在于林本坚的技术有多先进，而是在于林本坚给出了一个商业友好性极强的工艺方案。
在ASML推出浸入式193nm产品的半年后，尼康也宣布自己的157nm产品以及EPL产品样机完成。
然而，林本坚的浸入式属于小改进大效果，产品成熟度非常高，所以几乎没有人去订尼康的新品。
而半导体产品就是这样的特点，市场说了算。
赢得了市场，赢得了迭代的机会。
他想了想，还是耐心说道，“老师，您知道，我是一个商人。所以我习惯用商业的角度来看待问题。”
拿起矿泉水抿了一口，卿云继续说着，“您说，从投入……或者说对当前工艺的改进角度看，走157nm还是走浸入式193nm容易？”
程进茫然的看着他，摇摇头表示不知道，“但是技术路径就在摆着啊，科研是要攻坚克难的。”
卿云见状也只能无奈的耸了耸肩膀，“科研是科研的事，但作为一个企业家，我告诉你，我肯定选容易的。
有钱有市场我能继续出钱让科研研究下去，没钱我啥事都做不了。”
程进闻言嘶了一声，他好像明白了点。
卿云哂然一笑，“我们想要追赶别人，最好的法子是什么？”
“弯道超车？”
程进嗤笑了一声，他表示，这个口号已经喊了20年了，至少在半导体产业来说，是越超越离世界顶尖水平越远。
卿云翻了一个白眼，“是让敌人陷入泥潭里。”
他双手一摊，“19
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